服务热线:15169006099

网站公告

当前位置:网站首页 > 行业动态

使用干冰清洁剂去除硅晶片上的碳氢化合物和硅油污渍-行业动态

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2020-04-15 0:59:30 * 浏览: 1
简而言之,干冰喷射是一种从硅片表面去除碳氢化合物和硅油污渍的相对较新的方法。在这项技术中,高纯度的液态或气态干冰和雪在特殊的喷嘴中膨胀以形成高速射流。喷射器包含许多称为二氧化碳的小直径固体二氧化碳颗粒(称为雪),它们会撞击表面并清除粘附的颗粒(甚至是亚微米尺寸),碳氢化合物污渍(例如指纹和鼻印)以及硅脂。实际上,对清洁过的晶片表面进行二氧化碳雪除尘可以大大减少不确定的碳氢化合物,在一种情况下,可以减少约60%。清洁和污染的硅片的表面分析表明,二氧化碳除雪清洁不会引起明显的化学相互作用,也不会留下可检测的残留物。干冰清洁1.简介表面分析中最困难的问题之一涉及样品处理。 ASTM标准E1078讨论了各种保持表面清洁的方法以及处理样品的技术,以减少或消除暴露于空气中的有害影响。但是,许多样品无法以不使目标表面暴露于空气的方式进行处理或分析。在这些情况下,光谱富含碳,并且在许多情况下,碳层可以隐藏感兴趣的元素,或者可以覆盖整个表面,以至于无法检测到基材。在其他情况下,分析人员可能会收到带有指纹或其他有机残留物的样品,必须在不改变目标表面化学成分的情况下将其除去。通常,通过溶剂清洁,氧等离子体或氩离子溅射可减少表面上的大量烃残留。但是,在某些情况下,这些清洁程序可能会留下其他残留物或去除目标元素或化合物。在本文中,讨论了一种相对较新的程序,用于使用清洗去除碳氢化合物和真空油脂。最初用于表面清洁。使用高速喷涂的二氧化碳小颗粒以从硅表面去除颗粒和碳氢化合物膜的方法进一步开发了该方法。事实证明,高速喷射工艺在去除颗粒方面非常有效,相对去除效率超过99.9%。在这项工作中使用的二氧化碳除雪利用了高速二氧化碳喷射流与称为“雪”的小颗粒混合。雪粒是通过在市售喷嘴中膨胀气态或液态干冰和雪而产生的。迫使二氧化碳气体和积雪混合物通过喷嘴,然后将其喷到要清洁的表面上。它是二氧化碳雪和气体的混合物,可以清除表面的颗粒和碳氢化合物膜。在这项研究中,原始的硅片被故意污染了指纹,男性面部油脂(鼻子)或硅酮真空油脂,以评估二氧化碳除雪的有效性。此外,还研究了在原始硅片上清洁二氧化碳雪的有效性。我们的目标是量化清洁度,识别表面上可能发生的任何化学反应,并确定是否残留任何残留物。 2.简要说明在进行任何污染或清洁实验之前,将原始的硅晶片通过X射线光电子能谱(XPS)进行分析。这些分析用作对照。接下来,晶片被指印,男性面部油脂(鼻印)或硅酮真空油脂污染。然后用铝板覆盖大约一半的污渍,并使用干冰和雪清洁设备清洁污渍的裸露部分。然后将晶片加载到XPS系统中进行分析。初步分析后,将晶片存储在单独的聚丙烯晶片容器中约6周,然后重新进行分析。对于此分析,首先从沾污且先前干燥的冰和雪清洁区域获得光谱,第二个区域用作新的对照2号。然后在室内空气中用干燥的冰和雪清洁两个区域。快速将晶片重新装载到XPS中,并从干净的控制表面和干净的污染表面获得数据。后面的测试是评估该组实验数据的可重复性,并探讨暴露在空气中的晶圆的清洁方法。来自AircoIndustrialGases的SpectalmanCO2是我们ed进行这些测试。该等级中列出的杂质是:空气小于0.5ppm,碳氢化合物小于0.5ppm,水分小于2ppm。气瓶配有不锈钢供应软管和高纯度的CO2清洁喷嘴。喷嘴设计是产生二氧化碳雪的关键,可以有效去除污染物。清洁工作在1000级无尘室中进行。清洁设置如图1所示。使用SurfaceScience Instruments的XPS 206型进行表面分析。使用单色AlKax光束获得光谱,该光束具有600 JL的X射线光点大小,测量扫描的能量分辨率约为1.5 eV,高分辨率扫描的能量分辨率约为0.9 eV。分辨率值来自Au4 / 7/2过渡的FWHM(半高全宽)值。由于清洁过程会冷却样品,因此需要进行一些加热以防止水分凝结。因此,在清洁过程中,使用加热的真空吸盘(大约80°C)来固定所有样品。从保持在加热卡盘上的晶片获得的光谱但未除去二氧化碳积雪表明,表面碳氢化合物的变化与二氧化碳积雪的清洁有关,与加热引起的任何脱附无关。 3.结果与讨论A.表面组成pstyle =” margin-top:5px,margin-right:0,margin-bottom:5px,margin-left:0,font-variant-ligatures:normal,font-variant-caps:正常,孤儿:2,文本对齐:开始,寡妇:2,-webkit-text-str